Especificação do pó de lapidação FO, semelhante ao da FUJIMI.

Especificação do pó de lapidação FO, semelhante ao da FUJIMI.

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Propriedades físicas e composição química (%)

 

artigo

 

Tamanho

Gravidade específica

(g/cm3)

substância química (%)
Al2O3SiO2Fe2O3TiO2ZrO2
 

FO

#800-#1200≥3,90≥45,0≤20,0≤0,5≤2,0≤33,0
#1500-3000≥3,90≥40,5≤20,0≤0,7≤2,0≤33,0

PSD (Distribuição do Tamanho das Partículas)

TamanhoD0D3D50D94
#800≤32,0≤27,011,3±0,9≥6,5
#1000≤27,0≤23,09,4±0,8≥5,0
#1200≤23,0≤20,07,1±0,7≥4,0
#1500≤19,0≤17,05,5±0,5≥3,0
#2000≤15,0≤14,04,5±0,4≥2,0
#3000≤12,0≤11,03,6±0,4≥1,5

Principais aplicações

–Retificação e polimento de wafers semicondutores

–Acabamento superficial de diversos vidros ópticos

–Retificação e polimento de lentes, prismas, espelhos, filtros, etc., de cristais óticos.

–Acabamento superficial de materiais piezoelétricos

Embalagem

20 kg de sacos de papel + palete

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