Pó de lapidação FUJIMI,FO 3000 semelhante
Propriedades físicas e composição química do pó de lapidação FO 3000, semelhante ao da FUJIMI.
| Artigo | Tamanho | Gravidade específica | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| FO | 3000# | ≥3,90 | ≥40,5% | ≤20,0% | ≤0,7% | ≤2,0% | ≤33,0% |
Distribuição do tamanho de partículas (PSD) do pó de lapidação FO 3000
| Tamanho | D0 | D3 | D50 | D94 |
| #3000 | ≤12,0 | ≤11,0 | 3,6±0,4 | ≥1,5 |
Pó de lapidação FO Principais aplicações
–Retificação e polimento de wafers semicondutores
–Acabamento superficial de diversos vidros ópticos
–Retificação e polimento de lentes, prismas, espelhos, filtros, etc., de cristais óticos.
–Acabamento superficial de materiais piezoelétricos
Embalagem de pó de lapidação FO
20 kg de sacos de papel + palete
