Pó de lapidação FO 2000mesh, semelhante FUJIMI
Propriedades físicas e composição química do pó de lapidação FO 2000 mesh, semelhante ao FUJIMI
| Artigo | Tamanho | Gravidade específica | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| FO | 2000# | ≥3,90 | ≥40,5% | ≤20,0% | ≤0,7% | ≤2,0% | ≤33,0% |
Distribuição do tamanho de partículas (PSD) do pó de lapidação FO 1500
| Tamanho | D0 | D3 | D50 | D94 |
| #2000 | ≤15,0 | ≤14,0 | 4,5±0,4 | ≥2,0 |
Pó de lapidação FO Principais aplicações
–Retificação e polimento de wafers semicondutores
–Acabamento superficial de diversos vidros ópticos
–Retificação e polimento de lentes, prismas, espelhos, filtros, etc., de cristais óticos.
–Acabamento superficial de materiais piezoelétricos
Embalagem de pó de lapidação FO
20 kg de sacos de papel + palete
