Equivalente ao pó de lapidação Fujimi FO 1200
| Artigo | Tamanho | Gravidade específica | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| pó de lapidação FO | 1200# | ≥3,90 | ≥45,0% | ≤20,0% | ≤0,5% | ≤2,0% | ≤33,0% |
Distribuição do tamanho de partículas (PSD) do pó de lapidação FO 1200
| Tamanho | D0(um) | D3(um) | D50(um) | D94(um) |
| #1200 | ≤23,0 | ≤20,0 | 7,1±0,7 | ≥4,0 |
Pó de lapidação FO Principais aplicações
–Retificação e polimento de wafers semicondutores
–Acabamento superficial de diversos vidros ópticos
–Retificação e polimento de lentes, prismas, espelhos, filtros, etc., de cristais óticos.
–Acabamento superficial de materiais piezoelétricos
Embalagem de pó de lapidação FO
Sacos de PVC de 10 kg + palete
