pó de lapidação FO

O pó de esmeril FO, também chamado de pó de lapidação FO, semelhante ao FO da FUJIMI, é utilizado principalmente para a retificação e polimento de wafers semicondutores, vidros óticos, etc.

pó de lapidação FO

PÓ DE ESMERILHA
PÓ DE LAPIDAÇÃO FO

Pó de lapidação FO: Propriedades físicas e composição química (%)

 artigoTamanhoGravidade específica

(g/cm3)

Substância química (%)
Al2O3SiO2Fe2O3TiO2ZrO2
pó de esmeril FO#800-#1200≥3,90≥45,0≤20,0≤0,5≤2,0≤33,0
 #1500-#3000≥3,90≥40,5≤20,0≤0,7≤2,0≤33,0

Distribuição do tamanho de partículas (PSD) do pó de lapidação FO

Tamanho D0(um)D3(um)D50(um)D94(um)
#800≤32,0≤27,011,3±0,9≥6,5
#1000≤27,0≤23,09,4±0,8≥5,0
#1200≤23,0≤20,07,1±0,7≥4,0
#1500≤19,0≤17,0 5,5±0,5≥3,0
#2000≤15,0≤14,04,5±0,4≥2,0
#3000≤12,0≤11,03,6±0,4≥1,5

Pó de lapidação FO – Principais aplicações

–Retificação e polimento de wafers semicondutores

–Acabamento superficial de diversos vidros ópticos

–Retificação e polimento de lentes, prismas, espelhos, filtros, etc., de cristais óticos.

–Acabamento superficial de materiais piezoelétricos

Embalagem de pó de lapidação FO

Sacos de PVC de 10 kg + palete

 

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