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  Equivalente ao pó de lapidação Fujimi FO1000

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  Equivalente ao pó de lapidação Fujimi FO1200

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  pó de lapidação FO

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  Equivalente ótico de esmeril ao Fujimi FO

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  FO 1000/1200/1500 para a retificação e polimento de wafers de silício

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  FO 1000/1200/1500 para a retificação de wafers semicondutores

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  Pó de esmeril FO 1000 mesh D50: 9,4±0,8 microns

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  Pó óptico microfino FO1200 mesh D50:7,1±0,7um

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  Pó de lapidação FO1500mesh D50:5,5±0,5um

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  Equivalente ao pó de esmeril Fujimi FO

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  Equivalente ao micropó ótico Fujimi FO